中國市場(chǎng)看好 半導(dǎo)體設(shè)備巨頭加快布局
SEMI的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示：2007年全球半導(dǎo)體設(shè)備總銷售額為416.8億美元，較2006年小幅增長(zhǎng)3%；而2008年總銷售額預(yù)計(jì)為410.5億美元，較2007年減少1.5%。半導(dǎo)體市場(chǎng)的周期變化總是牽動(dòng)人心，而在這種變化中，中國市場(chǎng)又總令人期待。在SEMICONChina2008召開之際，我們特邀請(qǐng)業(yè)內(nèi)知名半導(dǎo)體設(shè)備、測(cè)試及材料廠商對(duì)未來產(chǎn)業(yè)走勢(shì)和中國市場(chǎng)熱點(diǎn)及中國市場(chǎng)策略發(fā)表見解，讓我們共同分享業(yè)界領(lǐng)袖的精彩觀點(diǎn)。
ASML中國區(qū)總經(jīng)理劉天兵
研發(fā)投入與外包模式是成功因素
亞洲地區(qū)仍然是ASML公司2008年業(yè)務(wù)增長(zhǎng)非常重要的一環(huán)，而中國也是ASML重要的市場(chǎng)。2007年，ASML全球業(yè)務(wù)營(yíng)收接近70%來自亞洲地區(qū)，中國的銷售也達(dá)到了歷史新高，這要感謝客戶對(duì)ASML的支持。
2008年，預(yù)計(jì)中國的半導(dǎo)體制造商仍會(huì)盡力利用二手200毫米工具進(jìn)一步擴(kuò)展其低成本產(chǎn)能，同時(shí)也將會(huì)在最先進(jìn)的300毫米光刻設(shè)備中增加投資。引進(jìn)先進(jìn)的技術(shù)進(jìn)行生產(chǎn)將有助于中國的半導(dǎo)體廠商增強(qiáng)競(jìng)爭(zhēng)力。
在產(chǎn)品方面，ASML針對(duì)非關(guān)鍵性的300毫米光刻設(shè)備，在TWINSCAN平臺(tái)上提供了一系列iLine和KrF設(shè)備。在2007年7月，ASML推出了最新的TWINSCAN系統(tǒng)XT1000，將別具成本優(yōu)勢(shì)的KrF技術(shù)擴(kuò)展至以前需要昂貴的ArF技術(shù)才能達(dá)到的高分辨率領(lǐng)域。利用這個(gè)系統(tǒng)，客戶能夠節(jié)省每層的成本達(dá)30%。這是因?yàn)镵rF技術(shù)的運(yùn)作成本更低，尤其是KrF激光器和KrF光阻等材料的成本更低。
在高端光刻部分，ASML浸沒式光刻機(jī)能夠滿足客戶為實(shí)現(xiàn)當(dāng)前環(huán)境所需的集成度和成本目標(biāo)而迅速采用先進(jìn)技術(shù)的迫切需要。這些設(shè)備讓芯片產(chǎn)業(yè)能夠在硅晶圓上進(jìn)行更小線寬的成像。芯片廠商需要制造出線寬更小、密度更高的集成電路，以提升芯片設(shè)計(jì)的功能，為當(dāng)今的計(jì)算和消費(fèi)電子產(chǎn)品提供動(dòng)力。
ASML最新的浸沒式設(shè)備TWINSCANXT1900i能夠?qū)崿F(xiàn)40納米存儲(chǔ)器的量產(chǎn)。自2007年7月首次交付使用以來，ASML已交付了20臺(tái)XT1900i設(shè)備給客戶。2007年是浸沒式光刻設(shè)備量產(chǎn)的開始，預(yù)計(jì)2008年浸沒式設(shè)備的凈銷售額將較2007年翻一番。
ASML成功的另一個(gè)因素在于研發(fā)方面的投入。此外，ASML的外包模式也是成功的要素之一，這些設(shè)備當(dāng)中高達(dá)90%的組件都是由主要的供貨商提供，有助于降低客戶的成本。而我們的供貨商正希望尋找更多的亞洲區(qū)制造商以進(jìn)一步降低成本。
ASML深知光刻技術(shù)必須具有成本效益和技術(shù)先進(jìn)性，而在全球范圍，客戶已在ASML的浸沒式設(shè)備上加工超過800萬片晶圓片以實(shí)現(xiàn)功能更強(qiáng)大的芯片和更出色的電子應(yīng)用。憑借2007年強(qiáng)勁的走勢(shì)，我們得以開始擴(kuò)大制造設(shè)施，全面增加全球的研發(fā)投資。作為各式光刻設(shè)備供貨商，ASML將會(huì)繼續(xù)努力，協(xié)助提高客戶的生產(chǎn)力以及設(shè)備的成像和套刻性能，讓我們?cè)谶@一要求非?？量痰男袠I(yè)中，繼續(xù)為滿足客戶的需求而努力。
應(yīng)用材料（中國）公司總經(jīng)理姚公達(dá)
根據(jù)客戶特點(diǎn)提供針對(duì)性產(chǎn)品和服務(wù)
應(yīng)用材料是全球最大的納米制造技術(shù)廠商之一，也是第一家進(jìn)入中國市場(chǎng)的外資半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商。
ASML中國區(qū)總經(jīng)理劉天兵
研發(fā)投入與外包模式是成功因素
亞洲地區(qū)仍然是ASML公司2008年業(yè)務(wù)增長(zhǎng)非常重要的一環(huán)，而中國也是ASML重要的市場(chǎng)。2007年，ASML全球業(yè)務(wù)營(yíng)收接近70%來自亞洲地區(qū)，中國的銷售也達(dá)到了歷史新高，這要感謝客戶對(duì)ASML的支持。
2008年，預(yù)計(jì)中國的半導(dǎo)體制造商仍會(huì)盡力利用二手200毫米工具進(jìn)一步擴(kuò)展其低成本產(chǎn)能，同時(shí)也將會(huì)在最先進(jìn)的300毫米光刻設(shè)備中增加投資。引進(jìn)先進(jìn)的技術(shù)進(jìn)行生產(chǎn)將有助于中國的半導(dǎo)體廠商增強(qiáng)競(jìng)爭(zhēng)力。
在產(chǎn)品方面，ASML針對(duì)非關(guān)鍵性的300毫米光刻設(shè)備，在TWINSCAN平臺(tái)上提供了一系列iLine和KrF設(shè)備。在2007年7月，ASML推出了最新的TWINSCAN系統(tǒng)XT1000，將別具成本優(yōu)勢(shì)的KrF技術(shù)擴(kuò)展至以前需要昂貴的ArF技術(shù)才能達(dá)到的高分辨率領(lǐng)域。利用這個(gè)系統(tǒng)，客戶能夠節(jié)省每層的成本達(dá)30%。這是因?yàn)镵rF技術(shù)的運(yùn)作成本更低，尤其是KrF激光器和KrF光阻等材料的成本更低。
在高端光刻部分，ASML浸沒式光刻機(jī)能夠滿足客戶為實(shí)現(xiàn)當(dāng)前環(huán)境所需的集成度和成本目標(biāo)而迅速采用先進(jìn)技術(shù)的迫切需要。這些設(shè)備讓芯片產(chǎn)業(yè)能夠在硅晶圓上進(jìn)行更小線寬的成像。芯片廠商需要制造出線寬更小、密度更高的集成電路，以提升芯片設(shè)計(jì)的功能，為當(dāng)今的計(jì)算和消費(fèi)電子產(chǎn)品提供動(dòng)力。
ASML最新的浸沒式設(shè)備TWINSCANXT1900i能夠?qū)崿F(xiàn)40納米存儲(chǔ)器的量產(chǎn)。自2007年7月首次交付使用以來，ASML已交付了20臺(tái)XT1900i設(shè)備給客戶。2007年是浸沒式光刻設(shè)備量產(chǎn)的開始，預(yù)計(jì)2008年浸沒式設(shè)備的凈銷售額將較2007年翻一番。
ASML成功的另一個(gè)因素在于研發(fā)方面的投入。此外，ASML的外包模式也是成功的要素之一，這些設(shè)備當(dāng)中高達(dá)90%的組件都是由主要的供貨商提供，有助于降低客戶的成本。而我們的供貨商正希望尋找更多的亞洲區(qū)制造商以進(jìn)一步降低成本。
ASML深知光刻技術(shù)必須具有成本效益和技術(shù)先進(jìn)性，而在全球范圍，客戶已在ASML的浸沒式設(shè)備上加工超過800萬片晶圓片以實(shí)現(xiàn)功能更強(qiáng)大的芯片和更出色的電子應(yīng)用。憑借2007年強(qiáng)勁的走勢(shì)，我們得以開始擴(kuò)大制造設(shè)施，全面增加全球的研發(fā)投資。作為各式光刻設(shè)備供貨商，ASML將會(huì)繼續(xù)努力，協(xié)助提高客戶的生產(chǎn)力以及設(shè)備的成像和套刻性能，讓我們?cè)谶@一要求非?？量痰男袠I(yè)中，繼續(xù)為滿足客戶的需求而努力。
應(yīng)用材料（中國）公司總經(jīng)理姚公達(dá)
根據(jù)客戶特點(diǎn)提供針對(duì)性產(chǎn)品和服務(wù)
應(yīng)用材料是全球最大的納米制造技術(shù)廠商之一，也是第一家進(jìn)入中國市場(chǎng)的外資半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商。
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