中國市場看好 半導(dǎo)體設(shè)備巨頭加快布局
SEMI的統(tǒng)計數(shù)據(jù)顯示：2007年全球半導(dǎo)體設(shè)備總銷售額為416.8億美元，較2006年小幅增長3%；而2008年總銷售額預(yù)計為410.5億美元，較2007年減少1.5%。半導(dǎo)體市場的周期變化總是牽動人心，而在這種變化中，中國市場又總令人期待。在SEMICONChina2008召開之際，我們特邀請業(yè)內(nèi)知名半導(dǎo)體設(shè)備、測試及材料廠商對未來產(chǎn)業(yè)走勢和中國市場熱點及中國市場策略發(fā)表見解，讓我們共同分享業(yè)界領(lǐng)袖的精彩觀點。
ASML中國區(qū)總經(jīng)理劉天兵
研發(fā)投入與外包模式是成功因素
亞洲地區(qū)仍然是ASML公司2008年業(yè)務(wù)增長非常重要的一環(huán)，而中國也是ASML重要的市場。2007年，ASML全球業(yè)務(wù)營收接近70%來自亞洲地區(qū)，中國的銷售也達到了歷史新高，這要感謝客戶對ASML的支持。
2008年，預(yù)計中國的半導(dǎo)體制造商仍會盡力利用二手200毫米工具進一步擴展其低成本產(chǎn)能，同時也將會在最先進的300毫米光刻設(shè)備中增加投資。引進先進的技術(shù)進行生產(chǎn)將有助于中國的半導(dǎo)體廠商增強競爭力。
在產(chǎn)品方面，ASML針對非關(guān)鍵性的300毫米光刻設(shè)備，在TWINSCAN平臺上提供了一系列iLine和KrF設(shè)備。在2007年7月，ASML推出了最新的TWINSCAN系統(tǒng)XT1000，將別具成本優(yōu)勢的KrF技術(shù)擴展至以前需要昂貴的ArF技術(shù)才能達到的高分辨率領(lǐng)域。利用這個系統(tǒng)，客戶能夠節(jié)省每層的成本達30%。這是因為KrF技術(shù)的運作成本更低，尤其是KrF激光器和KrF光阻等材料的成本更低。
在高端光刻部分，ASML浸沒式光刻機能夠滿足客戶為實現(xiàn)當前環(huán)境所需的集成度和成本目標而迅速采用先進技術(shù)的迫切需要。這些設(shè)備讓芯片產(chǎn)業(yè)能夠在硅晶圓上進行更小線寬的成像。芯片廠商需要制造出線寬更小、密度更高的集成電路，以提升芯片設(shè)計的功能，為當今的計算和消費電子產(chǎn)品提供動力。
ASML最新的浸沒式設(shè)備TWINSCANXT1900i能夠?qū)崿F(xiàn)40納米存儲器的量產(chǎn)。自2007年7月首次交付使用以來，ASML已交付了20臺XT1900i設(shè)備給客戶。2007年是浸沒式光刻設(shè)備量產(chǎn)的開始，預(yù)計2008年浸沒式設(shè)備的凈銷售額將較2007年翻一番。
ASML成功的另一個因素在于研發(fā)方面的投入。此外，ASML的外包模式也是成功的要素之一，這些設(shè)備當中高達90%的組件都是由主要的供貨商提供，有助于降低客戶的成本。而我們的供貨商正希望尋找更多的亞洲區(qū)制造商以進一步降低成本。
ASML深知光刻技術(shù)必須具有成本效益和技術(shù)先進性，而在全球范圍，客戶已在ASML的浸沒式設(shè)備上加工超過800萬片晶圓片以實現(xiàn)功能更強大的芯片和更出色的電子應(yīng)用。憑借2007年強勁的走勢，我們得以開始擴大制造設(shè)施，全面增加全球的研發(fā)投資。作為各式光刻設(shè)備供貨商，ASML將會繼續(xù)努力，協(xié)助提高客戶的生產(chǎn)力以及設(shè)備的成像和套刻性能，讓我們在這一要求非?？量痰男袠I(yè)中，繼續(xù)為滿足客戶的需求而努力。
應(yīng)用材料（中國）公司總經(jīng)理姚公達
根據(jù)客戶特點提供針對性產(chǎn)品和服務(wù)
應(yīng)用材料是全球最大的納米制造技術(shù)廠商之一，也是第一家進入中國市場的外資半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商。
ASML中國區(qū)總經(jīng)理劉天兵
研發(fā)投入與外包模式是成功因素
亞洲地區(qū)仍然是ASML公司2008年業(yè)務(wù)增長非常重要的一環(huán)，而中國也是ASML重要的市場。2007年，ASML全球業(yè)務(wù)營收接近70%來自亞洲地區(qū)，中國的銷售也達到了歷史新高，這要感謝客戶對ASML的支持。
2008年，預(yù)計中國的半導(dǎo)體制造商仍會盡力利用二手200毫米工具進一步擴展其低成本產(chǎn)能，同時也將會在最先進的300毫米光刻設(shè)備中增加投資。引進先進的技術(shù)進行生產(chǎn)將有助于中國的半導(dǎo)體廠商增強競爭力。
在產(chǎn)品方面，ASML針對非關(guān)鍵性的300毫米光刻設(shè)備，在TWINSCAN平臺上提供了一系列iLine和KrF設(shè)備。在2007年7月，ASML推出了最新的TWINSCAN系統(tǒng)XT1000，將別具成本優(yōu)勢的KrF技術(shù)擴展至以前需要昂貴的ArF技術(shù)才能達到的高分辨率領(lǐng)域。利用這個系統(tǒng)，客戶能夠節(jié)省每層的成本達30%。這是因為KrF技術(shù)的運作成本更低，尤其是KrF激光器和KrF光阻等材料的成本更低。
在高端光刻部分，ASML浸沒式光刻機能夠滿足客戶為實現(xiàn)當前環(huán)境所需的集成度和成本目標而迅速采用先進技術(shù)的迫切需要。這些設(shè)備讓芯片產(chǎn)業(yè)能夠在硅晶圓上進行更小線寬的成像。芯片廠商需要制造出線寬更小、密度更高的集成電路，以提升芯片設(shè)計的功能，為當今的計算和消費電子產(chǎn)品提供動力。
ASML最新的浸沒式設(shè)備TWINSCANXT1900i能夠?qū)崿F(xiàn)40納米存儲器的量產(chǎn)。自2007年7月首次交付使用以來，ASML已交付了20臺XT1900i設(shè)備給客戶。2007年是浸沒式光刻設(shè)備量產(chǎn)的開始，預(yù)計2008年浸沒式設(shè)備的凈銷售額將較2007年翻一番。
ASML成功的另一個因素在于研發(fā)方面的投入。此外，ASML的外包模式也是成功的要素之一，這些設(shè)備當中高達90%的組件都是由主要的供貨商提供，有助于降低客戶的成本。而我們的供貨商正希望尋找更多的亞洲區(qū)制造商以進一步降低成本。
ASML深知光刻技術(shù)必須具有成本效益和技術(shù)先進性，而在全球范圍，客戶已在ASML的浸沒式設(shè)備上加工超過800萬片晶圓片以實現(xiàn)功能更強大的芯片和更出色的電子應(yīng)用。憑借2007年強勁的走勢，我們得以開始擴大制造設(shè)施，全面增加全球的研發(fā)投資。作為各式光刻設(shè)備供貨商，ASML將會繼續(xù)努力，協(xié)助提高客戶的生產(chǎn)力以及設(shè)備的成像和套刻性能，讓我們在這一要求非?？量痰男袠I(yè)中，繼續(xù)為滿足客戶的需求而努力。
應(yīng)用材料（中國）公司總經(jīng)理姚公達
根據(jù)客戶特點提供針對性產(chǎn)品和服務(wù)
應(yīng)用材料是全球最大的納米制造技術(shù)廠商之一，也是第一家進入中國市場的外資半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商。
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