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半導(dǎo)體廠強(qiáng)化研發(fā) 思源EDA受青睞

昨(7月21)日公布6月北美半導(dǎo)體設(shè)備訂單出貨比(B/B值)達(dá)1.19,包括英特爾、超威、德儀等國(guó)際半導(dǎo)體大廠又提高研發(fā)采購(gòu)支出,讓加入臺(tái)積電開(kāi)放創(chuàng)新平臺(tái)(OIP)的電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化工具(EDA)供貨商思源科技(2473)接單明顯轉(zhuǎn)強(qiáng),尤其是在40奈米及28奈米的Laker系統(tǒng)更是備受青睞,成為今年資本支出概念股中黑馬。

思源科技Laker系統(tǒng)已經(jīng)成功打入臺(tái)積電40奈米及28奈米EDA工具供應(yīng)鏈,成為臺(tái)積電開(kāi)放創(chuàng)新平臺(tái)中合作伙伴,未來(lái)只要是臺(tái)積電的客戶,都可以透過(guò)OIP平臺(tái)采用思源Laker系統(tǒng),也因此,隨著臺(tái)積電擴(kuò)大40奈米產(chǎn)能,及28奈米于第3季開(kāi)始正式投片生產(chǎn),配合臺(tái)積電客戶群擴(kuò)大研發(fā)采購(gòu)支出,思源EDA工具已順利擴(kuò)展國(guó)外IDM廠及IC設(shè)計(jì)大廠市場(chǎng)占有率。

值得注意之處,在于臺(tái)積電65奈米以下制程,均將改采OpenAccess數(shù)據(jù)庫(kù)規(guī)范標(biāo)準(zhǔn)的跨平臺(tái)制程設(shè)計(jì)套件(iPDK),以降低客戶選擇不同EDA工具時(shí)可能導(dǎo)致的風(fēng)險(xiǎn)及成本。思源推出多款支持iPDK規(guī)格的40奈米及28奈米EDA工具,又獲得臺(tái)積電認(rèn)證,等于是將臺(tái)積電的所有客戶變成思源的潛在客戶群,包括全球前5大IC設(shè)計(jì)廠、前25大半導(dǎo)體廠等,均已成為思源客戶。

設(shè)備業(yè)者表示,臺(tái)積電下半年擴(kuò)產(chǎn)重心放在40奈米及28奈米,尤其第3季28奈米即將正式投片生產(chǎn),芯片大廠為了縮短前置時(shí)間及加速新制程導(dǎo)入速度,需要大量獲得認(rèn)證的EDA工具支持,自然帶動(dòng)一波EDA工具采購(gòu)熱潮涌現(xiàn)。

第2季一向是EDA市場(chǎng)淡季,但6月時(shí)已見(jiàn)到需求明顯增強(qiáng),思源6月份臺(tái)灣及北美市場(chǎng)合并營(yíng)收達(dá)1.76億元,較5月份的1.57億元大幅增加12%,雖然第2季合并營(yíng)收約達(dá)5.2億元,較第1季略少,但受惠于第3季后國(guó)際半導(dǎo)體大廠擴(kuò)大資本支出及提升研發(fā)采購(gòu)支出,下半年?duì)I收將逐季大幅成長(zhǎng),成為資本概念股中最具成長(zhǎng)潛力黑馬。

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