等離子清洗器是一種小型化、快速、非破壞性并無化學污染的臺式射頻氣體放電超清洗設備，主要用于需要表面超清洗的許多領域中，它也被用于一些材料表面化學改性。等離子清洗器清洗介質(zhì)采用惰性氣體，有效避免了其它清洗方法使用液體清洗介質(zhì)對被清洗物所帶來的二次污染。對某些特殊用途的材料，在超清洗過程中等離子清洗器的輝光放電不但加強了這些材料的粘附性、相容性和侵潤性，并使這些材料得到了消毒。等離子清洗器廣泛應用于光學材料、半導體工業(yè)、生物芯片、生物醫(yī)學、牙科、高分子科學等各個方面。





　　圖1，等離子清洗前后的Ge表面上的ATR 光譜（θave＝45°，N＝20）。底部路徑表明Ge覆蓋了一層厚（大約1微米）的光阻物質(zhì)（Azlll）。頂部路徑表明了在用O2等離子清洗十五分鐘后的相同表面，表明了Ge在光阻物質(zhì)從其表面脫除后又回到了其初始有機自由狀態(tài)。



　　圖2，從一個硅ATR盤片（60 反射，θ＝45°）上移除碳氧化合物。C－H鍵（底部路徑）表明10％的吸收，在等離子空氣中暴露一分鐘后被徹底消除（頂部路徑）。